אפלייד מטיריאלס העולמית מכריזה על פריצת דרך בתחום טכנולוגיית eBeam, טכנולוגיית הדמייה אשר מבוססת על קרן אלקטרונים. הטכנולוגיה החדשה פותחה בישראל, בה פועלת חטיבת Process Diagnostics and Control של אפלייד מטיריאלס, המנוהלת על ידי רפי בן עמי.

יצרניות השבבים משתמשות בטכנולוגיית eBeam כדי לזהות ולאפיין פגמים שמפאת גודלם אינם ניתנים לזיהוי על ידי מערכות אופטיות. מציאת פגמים על פני השטח או מוסתרים בעומק הופכת למאתגרת יותר ויותר ככל שיצרניות השבבים משפרות את ביצועי השבבים על ידי מזעור באמצעות ליתוגרפיית EUV, ובאמצעות מעבר לארכיטקטורות תלת ממד מורכבות כמו טרנזיסטורים חדשניים מסוג Gate All Around (GAA). פריצת הדרך הטכנולוגית של אפלייד מטיריאלס תאפשר ליצרניות השבבים להאיץ את תהליכי הפיתוח והייצור שלהן באמצעות טכנולוגית eBeam.

טכנולוגיית "Cold Field Emission" החדשה של אפלייד משפרת את רזולוציית התמונה בעד 50% לערכים הקטנים מננומטר בודד, ואת מהירות ההדמיה עד פי 10. כתוצאה, טכנולוגיה זו מאפשרת ללקוחותיה של אפלייד לאתר פגמים קטנים על פני השטח או בעומק שעד כה לא ניתן היה לראותם, ובכך לקצר את תהליך הפיתוח והייצור של השבבים, ולשפר את ביצועיהם.

בהמשך להודעה, אפלייד הציגה שני מוצרי CFE eBeam חדשים - SEMVision® G10 לאפיון פגמים ו-PrimeVision® 10 למציאת פגמים. המוצרים הללו יחזקו את ההובלה של אפלייד בשוק האבחון והבקרה של תהליכי eBeam.

עוד ב-

חברת ההייטק אפלייד מטיריאלס עם הכנסות שיא ברבעון

לכתבה המלאה

קית' וולס, סגן נשיא הקבוצה להדמיה ובקרת ייצור שבבים באפלייד מטיריאלס העולמית אמר בנוגע לפיתוח הישראלי: "עם הרזולוציה וצפיפות האלקטרונים הגבוהה ביותר בתעשייה, טכנולוגיית ה-Cold Field Emission (CFE) החדשה של אפלייד מאפשרת ליצרניות השבבים לזהות במהירות פגמים שהם מעולם לא הצליחו לראות קודם לכן".